
超纯水(Ultrapure Water, UP Water)是半导体制造过程中不可或缺的资源,其纯度要求极高,通常电阻率要达到18 MΩ·cm(25℃)。超纯水的制备涉及多个步骤,包括预处理、反渗透技术、电去离子(EDI)和抛光混床处理。
1. 预处理部分:通常包括多介质过滤器和活性炭过滤器,用于去除悬浮固体、有机物和氯等杂质。
2. 反渗透部分:使用反渗透膜去除水中的溶解固体和大部分的有机物。
3. 电去离子(EDI)部分:通过EDI模块和CEDI模块进一步去除水中的离子,以获得更高的纯度。
4. 抛光混床部分:通过最后的抛光混床处理,确保水质达到半导体制造的要求。
超纯水处理的优点包括:
环保:避免使用传统离子交换技术中消耗的大量酸碱,减少对环境的影响。
高效:克服传统离子交换设备再生周期较长的缺点。
节能:通过回收利用超滤反洗排水、一级RO浓水排水和CEDI浓水排水,实现节能减排。
经济:节约水资源和半导体制造单位的运行成本。
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